Belgische IMEC neemt zijn eerste EUV-systeem van ASML in ontvangst
IMEC begint deze week in Leuven met de installatie van zijn eerste EUV-lithografieapparatuur met hogere functies van ASML — het is de eerste Europese afnemer van een dergelijk systeem.
Maandag werd de grootste en zwaarste module per vrachtwagen geleverd: de 25 ton wegende ‘main bottom module’ die onder andere de wafertafel en meetinstrumenten bevatoensdag werd deze in de pas geopende NanoIC-cleanroom gehesen.
De overige onderdelen, waaronder de EUV-lichtbron en optische spiegels, volgen later; IMEC en ASML verwachten dat het systeem in het laatste kwartaal operationeel zal zijn.
High-NA EUV betekent een verbetering ten opzichte van de huidige EUV-systemen met een grotere numerieke apertuur, waardoor meer licht kan worden verzameld en scherper kan worden belicht — de nieuwste machine van ASML kan patronen creëren die ongeveer 67% kleiner zijn dan voorheen.
Momenteel wordt het high-NA-laboratorium dat IMEC samen met ASML in Veldhoven exploiteert, nog steeds gebruikt.
Belangrijke troef voor Europa
Deze opzet betekent een stap in de richting van het angstrom-tijdperk, waarin chips steeds kleiner en krachtiger zullen worden. Hiermee wil IMEC tegemoetkomen aan de groeiende behoefte aan krachtige en energiezuinige technologie voor toepassingen zoals kunstmatige intelligentie.
Leuven is de eerste locatie in Europa waar een High NA EUV-machine in een productielijn wordt geïntegreerd. Dit versterkt de positie van IMEC als toonaangevende speler in het wereldwijde chiponderzoek.
Het initiatief is een samenwerking tussen IMEC en ASML en krijgt steun van de Vlaamse en Nederlandse overheden en van Europese initiatieven. De Vlaamse minister-president Matthias Diependaele verklaarde dat de installatie het strategische belang van de sector onderstreept.